Абстрактный

Propiedades microestructurales y eléctricas de películas delgadas de (WO3)1-x(MoO3)x sintetizadas mediante la técnica de pirólisis por pulverización

Akl AA, Aly SA y Kaid MA

Se depositaron nuevos óxidos compuestos de películas delgadas de (WO3)1-x(MoO3)x mediante el método de pirólisis por aspersión. Se investigaron las propiedades microestructurales y eléctricas de las películas en el momento del depósito y después del recocido a diferentes concentraciones de MoO3. El análisis de XRD reveló que las películas en el momento del depósito eran amorfas, pero después del recocido, la cristalinidad de WO3 y MoO3 mejoró con una estructura hexagonal con un aumento en el MoO3, que consistía en tres fases no estequiométricas, que tienen una estructura monoclínica. Microestructura de una mezcla basada en la proporción de MoO3 en la película. Los mecanismos de conductividad eléctrica parecen tener dos comportamientos; conductividades extrínseca e intrínseca a temperaturas más bajas y más altas, respectivamente.

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