Абстрактный

Caracterización de películas delgadas de Mo-AlNxOy depositadas mediante pulverización catódica con magnetrón de RF

Thyago Santos Braga, Marcos Massi, Argemiro Soares Silva Sobrinho, Fabio Dondeo Origo, Choyu Otani

Se realizaron deposiciones de películas delgadas de Mo-AlNxOy sobre sustratos de vidrio y silicio mediante pulverización catódica reactiva con magnetrón de radiofrecuencia. La temperatura de deposición del sustrato se varió con el fin de evaluar la variación de la composición, la estructura cristalina, la reflectancia, la absorbancia y el intervalo de banda de las películas. Los resultados mostraron que las películas más amorfas presentaron la mayor absorbancia. El aumento de la absorbancia y la reducción del intervalo de banda se deben a la cristalinidad y a la inserción de molibdeno. Este cambio se produjo debido al diferente comportamiento de los materiales amorfos con intervalo de banda, al aumento de aceptores/donadores de electrones y al efecto plasmón causado por la inserción de molibdeno.